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S300 ION Sputtering para recubrir muestras hasta Ø304.8 mm – FESEM

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Sistema de pulverización iónica de alto vacío con tecnología magnetrón (dual target), ideal para recubrimientos conductores en muestras para microscopía electrónica de barrido de alta resolución (FESEM). Compatible con obleas semiconductores de hasta 12 pulgadas (Ø305 mm). 

Precio

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Descripción

El equipo S300 es un sistema de recubrimiento por pulverización catódica de alto vacío, diseñado específicamente para aplicaciones en microscopía electrónica de barrido de alta resolución (FESEM). Utiliza una bomba turbomolecular combinada con una bomba de diafragma libre de aceite, logrando una atmósfera ultra limpia con vacío de hasta 10⁻⁴ Pa. Su plataforma giratoria permite una deposición uniforme sobre obleas de hasta 304,8 mm (12 pulgadas), utilizando dos targets de 57mm que optimizan el uso de metales preciosos como oro, platino o iridio.

Este equipo es ideal para laboratorios que requieren recubrimientos conductores homogéneos en muestras sensibles al calor, gracias a su tecnología de pulverización magnetrón que minimiza el daño térmico. Su interfaz táctil y diseño plug-and-play facilitan su operación incluso en entornos de trabajo exigentes. Además, permite trabajar con metales propensos a la oxidación como tungsteno, cromo y plata.

 

Especificaciones técnicas

  • Aplicación: Recubrimiento conductor para FESEM de alta resolución y gran área
  • Sistema de bombeo: Bomba turbomolecular + bomba de diafragma libre de aceite.
  • Velocidad de bombeo: ≥1.5 m³/h (diafragma) + 80 L/s (turbomolecular)
  • Vacío final: 10⁻⁴ Pa
  • Vacío de trabajo: 0.3–1 Pa típico
  • Control de gas: MFC con flujo constante (50 SCCM N₂)
  • Tiempo de arranque: <5–10 min hasta 10⁻³ Pa
  • Tiempo de pulverización: 0–600 s
  • Medidor de vacío: Compuesto, desde presión atmosférica hasta 10⁻⁵ Pa
  • Dimensiones de la cámara: Ø350 × 100 mm
  • Sample stage (plataforma para muestra): Ø300 mm giratoria, compatible con obleas de hasta Ø304.8 mm (12″)
    Velocidad: 5–30 RPM ajustable

    • Distancia TSD: 50–80 mm ajustable
  • Blanco de pulverización: Ø50 × 0.2–1 mm (2 unidades)
    • Metales preciosos: Au, Pt, Pd, Ir
    • Metales oxidables: W, Cr, Ag
  • Fuente de potencia: DC constante, máx. 30W, 100 mA, 0–800 V
  • Entrada de gas: Ø6 mm
  • Método de operación: Pantalla táctil con sistema de protección por enclavamiento
  • Dimensiones y peso: 450 × 500 × 450 mm, ~50 kg
  • Alimentación eléctrica: 100–240V AC, máx. 500W
  • Garantía: consultar.
  • Plazo de entrega: consultar.
  • Descargar ficha técnica:

 

 

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