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Sustrato de nitruro de silicio TEM – Silicon Nitride Support Film
Las PELCO® Silicon Nitride Support Films son películas de soporte de nitruro de silicio para TEM. Robustas y estables, temperaturas de hasta 1000°C. Formato: paquetes de 10, 100 ó 1 unidad.
| Miniatura | SKU | Cantidad | Espesor | Tamaño aperturas | Número aperturas | Tamaño ventana | Existencias | Precio | Cantidad | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
 | 21510-10 | 10 | 8nm | 60x60µm | 25 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | |||
 | 21579-10 | 10 | 50nm | 50x50µm | 1 | 0.1x0.1mm | 1 disponibles | |||
| 21501-10 | 10 | 50nm | 1 | 0.75x0.75mm | 2 disponibles | ||||
| 21525-10 | 10 | 200nm | 1 | 0.25x0.25mm | 1 disponibles | ||||
| 21514CL-10 | 10 | 100nm | 1 | 1.0x1.0mm | 2 disponibles | ||||
| 21529-10 | 10 | 200nm | 1 | 0.5x0.5mm | 1 disponibles | ||||
| 21519-10 | 10 | 50nm | 1 | 0.5x0.5mm | 4 disponibles |
Descripción
Fabricadas con técnicas avanzadas de semiconductores y MEMS patentadas, estas películas delgadas de nitruro de silicio inorgánico y amorfo de bajo estrés están soportadas por un marco de silicio resistente. Disponibles en seis tamaños de ventana y con membranas de 8 a 200 nm de espesor en un marco redondo estándar de 3 mm de diámetro, son muy útiles en el mercado actual. Se han añadido sustratos hidrofóbicos e hidrofílicos para aplicaciones en nanotecnología y biotecnología. Las membranas de ultra bajo estrés se han creado mediante técnicas de deposición de capas atómicas (ALD).
Especificaciones técnicas
Material: Películas delgadas de nitruro de silicio inorgánico y amorfo de bajo estrés
Soporte: Marco de silicio resistente
Tamaños de ventana: Seis tamaños disponibles
Espesor de membranas: 8 a 200 nm
Diámetro del marco: 3 mm (redondo estándar)
Sustratos: Hidrofóbicos e hidrofílicos añadidos para aplicaciones en nanotecnología y biotecnología
Membranas de ultra bajo estrés: 15, 50 y 200 nm, creadas mediante técnicas de deposición de capas atómicas (ALD)
Propiedades:
Químicamente y mecánicamente robustas
Soportan temperaturas de hasta 1000°C
Extremadamente estables
Aplicaciones:
Experimentos en nanotecnología con partículas o células montadas directamente sobre ellas
Investigación en nanotecnología
Permiten la deposición directa y observaciones in situ de reacciones dinámicas en un amplio rango de temperaturas
Pueden actuar como soporte pasivo o participar activamente en los experimentos
