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BMSC2000 Sputtering magnetrón de alto vacío – muestras Ø216 mm
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Descripción
Este sistema de recubrimiento por sputtering está diseñado para laboratorios avanzados de microscopía electrónica, ciencia de materiales y semiconductores. Su cámara de borosilicato de Ø 30 cm y doble target (si ambos targets trabajan simultáneamente) permite el tratamiento uniforme de muestras circulares (obleas – wafers) de hasta Ø 216 mm o rectangulares máx. 15×15 cm (diagonal de Ø 212 mm).
Incorpora doble target magnetrón DC, rotary stage (platina rotatoria) y control automático para pre-sputtering.
Es compatible con una amplia gama de materiales como Au, Pt, Pd, Ni, Ti, Al, Cr, ITO, etc y semiconductores. Dispone de protección contra sobrecorriente y vacío, monitor de espesor y biblioteca de targets integrada. Puede incluir módulos opcionales de refrigeración por agua y calentamiento de muestra, recomendados para capas gruesas o adherencia mejorada.
Ideal para deposición de películas finas en aplicaciones de microscopía electrónica y recubrimientos funcionales.
Software en inglés en el modelo standard y castellano como extra opcional.
Especificaciones técnicas
- Tipo de recubrimiento: Pulverización catódica por magnetrón DC
- Número de targets: 2 (operan de forma independiente)
- Diámetro de los targets: Φ57 mm
- Área de recubrimiento uniforme: Obleas hasta Ø216 mm con configuración rotary stage + dual target.
- Tamaño máximo de muestra rectangular: Hasta 15×15 cm – diagonal de 212 mm (rotary + dual target).
- Materiales compatibles: Metales (Au, Ag, Al, Cr, Ti, Ni, Pt, Pd), aleaciones, ITO, semiconductores
- Método de enfriamiento: Natural (opcional refrigeración por agua para capas >1 µm)
- Módulo de calentamiento: Opcional (recomendado para mejorar adherencia del recubrimiento)
- Corriente de sputtering: 2–200 mA, ajustable en pasos de 1 mA
- Tiempo de sputtering: 1–9999 s, ajustable en pasos de 1 s
- Sistema de vacío: Bomba turbomolecular + bomba rotativa
- Velocidad de bombeo: 250 L/s + 2 L/s
- Vacío máximo alcanzado: < 5E-3 Pa
- Modo de operación: Automático o manual
- Gas de trabajo: Argón
- Tamaño de la cámara: Φ300 mm (diámetro externo) × 130 mm (altura)
- Material de la cámara: Vidrio borosilicato
- Mesa de muestras: Φ220 mm, rotación manual o automática
- Velocidad de rotación: 4–20 rpm
- Interfaz de usuario: Pantalla táctil LCD a color de 7 pulgadas
- Idiomas disponibles: Inglés
- Protecciones: Contra sobrecorriente y condiciones de vacío
- Monitor de espesor: Hasta 9999 nm
- Biblioteca de targets: Integrada, accesible desde la interfaz
BMSC-2000TDP Large Chamber High Vaccum Magnetron Sputtering Coater.pdf
